半導体デバイスの性能向上の鍵を握る重要な工程にエッチングがある。ウェーハ上に現像されたマスクパターンにしたがって、不要部分を除去して溝を掘ったり、穴を空ける工程で、その精度向上は半導体の微細化に直結する。

　世界中の半導体メーカーのチップ製造工程を支える東京エレクトロングループ。その中で、エッチング装置の開発を担当するのが東京エレクトロン宮城のES（エッチングシステム）開発部だ。
「エッチングの方式や装置の材料をめぐって、世界トップレベルの競争が日々ここで繰り広げられています」と、グループリーダーの小林義之氏は語る。

　エッチングシステムにはいくつかの種類があるが、小林氏が担当しているのはプラズマエッチング。薬液で腐食させるウェットエッチングとは違い、プラズマエッチングでは、エッチング・チャンバーと呼ばれる真空容器の中で、プラズマによって生成された活性粒子と、シリコンなどの固体材料とを化学反応させ、不要部分を揮発、除去する。
「私の仕事はエッチング装置の開発全体を取りまとめるグループリーダーとしての役割と、そこに使う材料を開発するプレイヤーとしての役割の2つがあります」という小林氏は、エッチング・チャンバーの材料開発にあたって、常識を打ち破る画期的な技術を開発した経験がある。

　熾烈な開発競争が繰り広げられる半導体製造装置の開発現場。エンジニアたちは、専門分野の造詣に加えて、幅広い技術知識を総動員しながら、半導体メーカーのニーズを的確に掴んでいく。こうした開発競争の中では、時として従来の常識を覆すような斬新なアイデアが必要になることもある。

　そうして生まれた革新的製品のひとつに、2000年に発表された「Telius（テリウス）」という300mmウェーハ向けエッチング装置がある。ウェーハ大口径化の要求に対し高いコストパフォーマンスを実現した装置で、とりわけ200mmウェーハ向け装置と同等な小型装置、搬送スループットの向上が注目を集めた。

　「Telius」のプロジェクトは当初6人の中堅エンジニアたちでスタートした。機械系エンジニア、電気系エンジニア、フィールドエンジニア、マーケティング担当など、それぞれ異なる経験をもつメンバーたち。その一人が、現在、開発部門ES PM技術部で部長代理を務める廣瀬潤氏だった。

「それまで、さまざまな分野の開発に携わってきましたが、入社8年目、突然新規プロジェクトへの異動を命じられました。まったく何もないゼロベースから、コンセプト作りを始めることになりました」と当時を振り返る。
　コンセプトの鍵を握ったのが、ウェーハをどのように流していくかという搬送系の技術や小型チャンバーへの取り組み。
「ちょうど顧客ニーズが少量多品種へシフトしていく中だったので、当時は非常識ともいえる方法を考え、採用しました」（廣瀬氏）

　コンセプトができあがると、各方面から中途採用者も含む約30名のエンジニアが集められ、実際の開発へと向かっていった。しかし、集まったメンバーからは「現実的に難しいのでは」という、開発を危惧する声が噴出したという。

　廣瀬氏らは、「非常識」は承知のうえ、コンセプトの優位性を丁寧に説明した。厳しいディスカッションを重ねることで、開発の道筋に少しずつ光が見えだした。
「これまでも、まったく新しいコンセプトの製品を生み出し、世界中の半導体メーカーの製造プロセスを大きく変革してきたという歴史が自分たちにはある。みんなの知恵を集めればけっしてできないはずがない」という自負と情熱が開発メンバーを支えた。

「当時のメンバーとは、今でもよく話をすることがありますが、みんな『キツかったけれど、楽しかった』『新しい技術をいっぱい身につけることができたプロジェクトだった』といってくれますよ。私自身でもこれまでで一番、思い入れのあるプロジェクトでしたね」と廣瀬氏は語る。

　ところで「Telius」やその後のハードウェア開発を行った｢Vigus｣の開発メンバーを含め、同社に中途入社した多くのエンジニアが語る共通のことがある、と廣瀬氏は指摘する。
　それは「この会社って、自由ですね」という言葉。東京エレクトロングループでは自分のやりたい技術、チャレンジしたい研究があれば、自由にやらせてもらえる風土がある。新卒で入っている廣瀬氏自身は当然のことと感じていたが、彼らの話を聞いて、この会社の楽しさ、面白さを再認識しているという。そうした自由な風土が、まったく新しい技術、製品を生み出す原動力の一つになっているようだ。

※「Telius」「Vigus」 は、東京エレクトロン株式会社の登録商標です。