■当社の知財法務部にて、知的財産業務を中心に、ご経験や適正に応じて下記のような業務をご担当いただきます。社内に弁理士も在籍しているため、ご経験ない業務は学びながらキャッチアップしていただけます。
【具体的には】
■国内外の出願・権利化業務（調査、発明発掘、翻訳、明細書作成、 中間処理など）
■国内外の他社特許対策業務（権利解釈、有効性判断、交渉、パテントマップ作成など）
［配属先情報］
知財法務部

【いずれか必須】■企業の知財部門でのなんらかの経験　■特許事務所でのなんらかの経験　■弁理士を目指している方
【求める人物像】創意工夫しながら高い目標にチャレンジすることが好きな方
【歓迎】■中間処理(拒絶応答、審判等)の実務経験のある方
■明細書作成等の特許実務が好きな方
■半導体デバイスの特許執務経験者　■成膜装置の特許実務経験者
［学歴］大学　大学院

本社（京都市西京区）
［転勤］無

［想定年収］400万円〜700万円
［賃金形態］月給制
［月給］333000円〜333000円

［所定労働時間］8時間0分　［休憩］60分
［フレックスタイム制］有
［コアタイム］有　10:00〜16:00

完全週休2日制
［年間休日］123日　内訳：土日祝
その他（※夏季/年末年始休暇あり）
［有給休暇］入社半年経過後10日〜最高20日

［退職金］無
［社会保険］健保　厚生年金　雇用　労災
［寮社宅］無

■設立以来、環境負荷の少ない非真空プロセスで酸化膜を生成する、『低コスト・安全・環境に優しい』画期的な技術、『ミストCVD成 膜技術』を基礎技術とした、パワーデバイス事業と成膜ソリューション事業を展開しています。 ■パワーデバイス事業では、画期的な新材料として注目されている「コランダム構造酸化ガリウム」を用いた、世界初の超低損失・低コストなパワーデバイスの開発・製造販売を手掛けています。FLOSFIA では京都大学藤田静雄教授と連携し、世界に先駆けてコランダム構造酸化ガリウム半導体の研究開発に取り組み、数々の成果を上げてきました。既にダイオード（SBD）の実証試作に成功、世界最小の特 性オン抵抗を実現しています。2018年のSBD量産化およびFETの製品化を目指して、日々研究・製造開発に取り組んでいます。 ■成膜ソリューション事業では、多種多様な金属酸化膜を様々な応用分野に展開するサポートを実施。環境・エネルギー関連、医療用器具関連など幅広い産業分野からの受託開発を頂いております。耐食性、電気伝導性、絶縁性などの機能性付与や微細加工などお客様の製品（アプリケーション）の付加価値を上げる技術として、今後も更なる展開が期待されています。